Gå til hovedindhold
UdbudsScanner
Alle udbud
TED773729-2024

Plasmapro 100 Cobra

Ordregiver
Københavns Universitet
Oplyst værdi / estimat
446.196 EUR
Frist
—
Publiceret
18.12.2024
CPV
38000000
Leveringssted (NUTS)
DK011, DNK

Dataposten opdateret . Datakilder, dækning og beregningsmetode.

Beskrivelse
We are purchasing an ICP dry etching machine for the KU cleanroom, to be installed with fluorine-based chemistry within the cleanroom. It will be optimized for the etching silicon nitride structures on both silicon and GaAs substrates during installation. • Compatibility with current cleanroom equipment - Oxford Instruments Plasmalab 100 ICP65 • Be able to process 100mm wafers, as well as individual pieces to specification. • Must realize smooth sidewall structures in Silicon Nitride that are defined by Electron Beam Lithography (EBL). • Optimization for silicon nitride etching, though capable of etching other materials (such as NbTiN.

Procedure og udbudsmateriale

Oplysninger fra bekendtgørelsen kan dække flere delkontrakter. Listerne nedenfor er separate uddrag; rækkefølgen kobler ikke et kriterium til en beskrivelse eller delkontrakt. Kontrollér krav, vægtning, frister, optioner og eventuelle rettelser i originalmaterialet.

Proceduretype (kildens kode)

  • neg-wo-call

Tildelingskriterier

  • kun en leverandør mulig

Beskrivelser af tildelingskriterier

  • The machine is meant to be used in tandem with a chlorine-etching machine already installed at hcø. That machine is an Oxford Instruments Plasmalab 100 ICP65. For software, hardware, and maintenance compatibility, the only reasonable supplier is Oxford Instruments.
Åbn originaludbud

Andre bekendtgørelser i samme CPV-kategori

Nyeste bekendtgørelser med samme firecifrede CPV-kategori. Listen kan omfatte både åbne udbud og historik.